Khác biệt giữa bản sửa đổi của “Phún xạ cathode”
Nội dung được xóa Nội dung được thêm vào
n clean up, General fixes using AWB |
|||
Dòng 1:
{{chú thích trong bài}}
'''Phún xạ''' ([[tiếng Anh]]: '''''Sputtering''''') hay '''Phún xạ [[cathode]]''' ('''''Cathode Sputtering''''') là kỹ thuật chế tạo màng mỏng dựa trên nguyên lý truyền [[động năng]] bằng cách dùng các [[ion]] [[khí hiếm]] được tăng tốc dưới [[điện trường]] bắn phá bề mặt [[vật liệu]] từ bia vật liệu, truyền động năng cho các [[nguyên tử]] này bay về phía đế và lắng đọng trên đế. [[Tập tin:Sputtering1.PNG|nhỏ|phải|350px|Nguyên lý của quá trình phún xạ]]
==Bản chất quá trình phún xạ==
| |||