Khác biệt giữa bản sửa đổi của “Chế tạo dạng tự do bằng chùm tia điện tử”

Mô hình hoạt động của EBF³ là xây dựng mô hình trực tiếp từ tệp CAD. Phương pháp gia công với sự trợ giúp của máy tính hiện tại cũng bắt đầu bằng mô hình CAD và sử dụng bộ hậu xử lí để viết các lênh gia công (mã G) để xác định đường chạy dao để hoàn thiện chi tiết. EBF³ cũng sử dụng quá trình tương tự, cũng bắt đầu từ mô hình CAD, cắt lớp số hóa , sau đó dùng bộ hậu xử lí để viết mã G để định nghĩa đường bồi đắp vật liệu và các thông số quá trình cho các thiết bị EBF³.<ref>{{chú thích web | url = http://www.nasa.gov/topics/aeronautics/features/electron_beam.html | tiêu đề = From Nothing, Something: One Layer at a Time. | author = | ngày = | ngày truy cập = 26 tháng 7 năm 2018 | nơi xuất bản = NASA | ngôn ngữ = }}</ref> Nó sử dụng chùm tia electron trong môi trường chân không để tạo một vũng chảy trên lớp kim loại nền. Các chùm tia được dịch đối với bề mặt của chất nền trong khi dây kim loại được đưa vào vũng chảy. Lớp vật liệu bồi đắp sẽ hóa rắn ngay sau khi tia electron đi qua, độ bền cấu trúc đủ để tự giữ chính nó mà không cần cấu trúc đỡ. Trình tự được lặp lại như vậy cho đến khi tạo thành chi tiết có biên dạng gần đúng và chỉ cần xử lí bề mặt. Quy trình EBF³ có thể sử dụng cho các chi tiết từ một inch đến 10 foot do giới hạn kích thước của buồng chân không và đây cấp hiện có trên thị trường.<ref>{{chú thích web | url = http://www.techbriefs.com/content/view/478/34/Portable | tiêu đề = Portable Electron-Beam Free-Form| Fabricationauthor System.= | ngày = | ngày truy cập = 26 tháng 7 năm 2018 | nơi xuất bản = | ngôn ngữ = }}</ref>

{{Reflisttham khảo}}

[[CategoryThể loại:Chùm điện tử trong sản xuất]]

[[CategoryThể loại:Ra mắt năm 2000]]

[[CategoryThể loại:Thành lập năm 2000 tại Hoa Kỳ]]