Khác biệt giữa bản sửa đổi của “Electron”
Nội dung được xóa Nội dung được thêm vào
Không có tóm lược sửa đổi |
Không có tóm lược sửa đổi |
||
Dòng 1.647:
| isbn = 978-981-02-3500-0
}}</ref>
===Chụp ảnh===
[[Nhiễu xạ electron năng lượng thấp]] (Low-energy electron diffraction, LEED) là một phương pháp bắn vào vật liệu có cấu trúc tinh thể bằng một [[chùm chuẩn trực|chùm electron chuẩn trực]] sau đó quan sát hình ảnh nhiễu xạ giúp xác định lên cấu trúc của vật liệu. Năng lượng đòi hỏi của các electron ở những chùm này trong khoảng 20–200 eV.<ref>
{{cite book
| last = Oura | first = K.
| year = 2003
| title = Surface Science: An Introduction
| pages = 1–45
| publisher = Springer Science+Business Media
| isbn = 978-3-540-00545-2
|display-authors=etal}}</ref> Kỹ thuật [[phản xạ nhiễu xạ electron năng lượng cao]] (reflection high-energy electron diffraction, RHEED) sử dụng sự phản xạ của một chùm electron bắn đến với nhiều góc hẹp khác nhau để nghiên cứu đặc trưng bề mặt của vật liệu có cấu trúc tinh thể. Chùm năng lượng thường nằm trong khoảng 8–20 keV và góc bắn electron thường bằng 1–4°.<ref>
{{cite book
| last = Ichimiya | first = A.
| last2 = Cohen | first2 = P.I.
| year = 2004
| title = Reflection High-energy Electron Diffraction
| url = https://books.google.com/?id=AUVbPerNxTcC&pg=PA1
| page = 1
| publisher = Cambridge University Press
| isbn = 978-0-521-45373-8
}}</ref><ref>
{{cite journal
| last = Heppell | first = T.A.
| year = 1967
| title = A combined low energy and reflection high energy electron diffraction apparatus
| journal = [[Measurement Science and Technology|Journal of Scientific Instruments]]
| volume = 44 | pages = 686–688
| doi =10.1088/0950-7671/44/9/311
|bibcode = 1967JScI...44..686H
| issue = 9 }}</ref>
==Xem thêm==
| |||