Mở trình đơn chính

Tali(III) oxit là một hợp chất hóa học vô cơ có thành phần chính gồm hai nguyên tố thành phần là talioxy, với công thức hóa học được quy định là Tl2O3. Hợp chất này tồn tại trong tự nhiên dưới dạng khoáng vật quý hiếm avicennit.[1] Cấu trúc của hợp chất này liên quan đến cấu trúc Mn2O3 và có cấu trúc giống như bixbyit. Tl2O3 là một hợp chất có tính dẫn điện cao và đồng thời cũng là chất bán dẫn loại n có thể có khả năng được ứng dụng trong pin Mặt Trời.[2] Một phương pháp sản xuất Tl2O3 bởi MOCVD được công bố.[3] Bất kỳ việc sử dụng thực tiễn nào của hợp chất này đều phải cân nhắc kĩ càng đến tính chất độc của tali trong tự nhiên. Hợp chất này nếu tiếp xúc với độ ẩm và axit có thể tạo thành các hợp chất có độc tính.

Tali(III) oxit
Tl2O3structure.jpg
Tali(III) oxit
Tên khácthallium trioxide, thallium sesquioxide
Nhận dạng
Số CAS1314-32-5
PubChem9804116
Số EINECS215-229-3
Ảnh Jmol-3Dảnh
SMILES
Thuộc tính
Công thức phân tửTl2O3
Khối lượng mol456.76 g/mol
Bề ngoàiChất rắn tối màu, gần đen
Khối lượng riêng10.19 g/cm3, rắn (22 °C)
Điểm nóng chảy 717 °C (990 K; 1.323 °F)
Điểm sôi 875 °C (1.148 K; 1.607 °F) (thăng hoa)
Độ hòa tan trong nướckhông tan
MagSus+76.0·10−6 cm3/mol
Trừ khi có ghi chú khác, dữ liệu được cung cấp cho các vật liệu trong trạng thái tiêu chuẩn của chúng (ở 25 °C [77 °F], 100 kPa).
KhôngN kiểm chứng (cái gì Có KhôngN ?)

Điều chếSửa đổi

Hợp chất này được tạo thành do phản ứng của tali với oxy hoặc hydrogen peroxit trong dung dịch kiềm tali(I). Ngoài ra, nó có thể được tạo ra bởi quá trình oxy hóa của tali(I) nitrat bằng clo trong dung dịch kali hydroxit trong nước.

Tham khảoSửa đổi

  1. ^ http://www.handbookofmineralogy.org/pdfs/avicennite.pdf Handbook of Mineralogy
  2. ^ Phillips R. J.; Shane M. J.; Switzer J. A. (1989). “Electrochemical and photoelectrochemical deposition of Thallium(III) Oxide thin films”. Journal of Materials Research 4 (04): 923. doi:10.1557/JMR.1989.0923. 
  3. ^ D. Berry; R. T. Holm; R. L. Mowery; N. H. Turner & M. Fatemi (1991). “Thallium(III) Oxide by Organometallic Chemical Vapor Deposition”. Chemistry of Materials 3 (1): 72–77. doi:10.1021/cm00013a019.